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即日KLA公司（納斯達(dá)克股票代碼：KLAC）頒布推出革新性的eSL10?電子束圖案化晶圓缺點(diǎn)查看體例。該體例具備特殊的檢驗(yàn)和測(cè)定本領(lǐng)，不妨檢驗(yàn)和測(cè)定出慣例光學(xué)或其余電子束檢驗(yàn)和測(cè)定平臺(tái)沒(méi)轍捕捉的缺點(diǎn)，進(jìn)而加快了高本能論理和保存芯片的掛牌功夫（囊括那些依附于極其紫外光（EUV）光刻本領(lǐng)的芯片）。eSL10的研制是始于最基礎(chǔ)的構(gòu)架，對(duì)準(zhǔn)研制消費(fèi)生存有年的題目而開(kāi)拓出了多項(xiàng)沖破性本領(lǐng)，可供給高辨別率，高速檢驗(yàn)和測(cè)定功效，這是商場(chǎng)就任何其余電子束體例都難以比較的。

KLA電子束部分總司理Amir Azordegan表白：“運(yùn)用簡(jiǎn)單的高能量電子束，eSL10體例將電子束檢驗(yàn)和測(cè)定本能提高到了一個(gè)新程度。在此之前，電子束檢驗(yàn)和測(cè)定體例不許統(tǒng)籌精巧度和生產(chǎn)能力，重要控制了本質(zhì)的運(yùn)用。咱們特出的研制工程共青團(tuán)和少先隊(duì)沿用了嶄新的本領(lǐng)來(lái)安排電子束框架結(jié)構(gòu)以及算法，研制出的新體例不妨處置現(xiàn)有擺設(shè)沒(méi)轍處置的題目。暫時(shí)，KLA將電子束檢驗(yàn)和測(cè)定加入對(duì)創(chuàng)造頂端產(chǎn)物至關(guān)要害的擺設(shè)清單?！?/p>

圖：對(duì)準(zhǔn)進(jìn)步的論理、DRAM和3D NAND器件，KLA革新性的eSL10?電子束圖案化晶圓缺點(diǎn)檢驗(yàn)和測(cè)定體例運(yùn)用特殊的本領(lǐng)創(chuàng)造鑒別產(chǎn)物中的要害缺點(diǎn)。

eSL10電子束檢驗(yàn)和測(cè)定體例具備多項(xiàng)革新性本領(lǐng)，不妨填補(bǔ)對(duì)要害缺點(diǎn)檢驗(yàn)和測(cè)定本領(lǐng)的差異。特殊的電子光學(xué)安排供給了在技術(shù)界對(duì)立比擬普遍的操縱運(yùn)轉(zhuǎn)范疇，不妨捕捉百般各別制造過(guò)程層和器件典型中的缺點(diǎn)。Yellowstone?掃描形式歷次不妨掃描搜集100億像素的消息，扶助高速運(yùn)轉(zhuǎn)的同聲不會(huì)感化辨別率，以在較大地區(qū)內(nèi)也能高效地接洽潛伏缺點(diǎn)，實(shí)行缺點(diǎn)創(chuàng)造。Simul-6?傳感器本領(lǐng)不妨經(jīng)過(guò)一次掃描同聲搜集外表、形貌、資料比較度和深溝槽消息，進(jìn)而縮小了在具備挑撥性的器件構(gòu)造和資料中辨別各別缺點(diǎn)典型所需的功夫。依附其進(jìn)步的人為智能（AI）體例，eSL10應(yīng)用了深度進(jìn)修算法，能滿(mǎn)意IC創(chuàng)造商連接興盛的檢驗(yàn)和測(cè)定訴求，根絕了對(duì)器件本能感化最要害的缺點(diǎn)。

三維器件構(gòu)造，比方用來(lái)外存運(yùn)用的3D NAND和DRAM，以及用來(lái)論理器件的FinFET和GAA（Gate-All-Around）構(gòu)造，都訴求晶圓廠從新商量保守的缺點(diǎn)遏制戰(zhàn)略。eSL10與KLA的航空母艦39xx（“ Gen5”）和29xx（“ Gen4”）寬光譜晶圓缺點(diǎn)檢驗(yàn)和測(cè)定體例的貫串，為進(jìn)步的IC本領(lǐng)供給了宏大的缺點(diǎn)創(chuàng)造和監(jiān)測(cè)處置計(jì)劃。那些系全部同協(xié)作，普及了產(chǎn)物的良率和真實(shí)性，將更快地創(chuàng)造要害缺點(diǎn)，并不妨更快地處置從研制到消費(fèi)的缺點(diǎn)題目。

新推出的eSL10體例平臺(tái)具備特殊的擴(kuò)充性，不妨延申到所有電子束檢驗(yàn)和測(cè)定和量測(cè)運(yùn)用中。寰球范疇內(nèi)進(jìn)步的論理器件、保存器和制造過(guò)程擺設(shè)創(chuàng)造商都在運(yùn)用eSL10體例，運(yùn)用該體例扶助研制消費(fèi)進(jìn)程，提高和監(jiān)測(cè)下一代產(chǎn)物制造過(guò)程和器件的創(chuàng)造。為了維持其高本能和消費(fèi)力展現(xiàn)，eSL10體例具有KLA寰球歸納效勞搜集的扶助。

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